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设备类别
数控磁流变抛光机床
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产品名称: 数控磁流变抛光机床
点击次数: 1434次
产品信息:

PHMRF-100P磁流变抛光机床

设备用途
本设备主要应用于高精度光学玻璃、石英玻璃、蓝宝石晶体材料,陶瓷材料,半导体晶片等硬脆性元件的精密研磨抛光。

设备简介
     机床的环性非导磁研抛盘采用高密度树脂组成,具有运行平稳不变形、无冲击、噪音低的特点,环形研抛盘对称分布二到四轴工件夹持装置,Z轴进给方向采用独立伺服进给,精确控制每个抛光轴的抛光间隙。工件自转采用高速伺服驱动,研抛盘驱动采用高精度行星减速机驱动。

     本机床的磁场发生装置采用高导磁材料设计。磁极各发生器设计成可拆分防结构,根据不同工件的研抛特点,可改变磁极的形状以适应工件抛光的工艺改变。通过调节磁场和发生器的电流从而控制磁流变液的剪切力。磁场发生器采用内置铜管水冷设计,可有效控制装置的升温引起磁场变化而影响磁流变液的抛光稳定性。


     机床配有专用的磁流变液循环装置,引用回收装置将从抛光区域的磁流变液进行回收处理。能够始终保持磁流变也的成分均匀及温度稳定,从而保证磁流变抛光在一定的工况下,保持最佳的抛光效果。


     磁流变液采用辉碟公司菲博士® PHMW-W01A型水基磁流变液及PHMW-OL01A油基磁流变抛光液,根据不同工件材质不同选用不同的磁流变液。


     与传统的超精密加工相比,PHMRF-100P磁流变抛光机床能够获得质量较高的光学表面。能够获得比较复杂的表面形状,通过控制磁场发生器的电流来控制切削去除量的大小。不会存在刀具磨损,堵塞现象,在可控磁场的作用下,刀具形状误差及刀具运动的振动误差,摩擦误差等在磁流变抛光中对加工精度影响极小。


PHMRF-100P磁流变抛光机床技术参数

 

研抛盘材质

 

高密度树脂

 

研抛盘外径

 

600mm/800mm

 

研抛盘形状

 

环形

 

研抛盘线速度

 

10m/min~100m/min

 

磁极对数

 

2对/4对

 

磁极高度

 

50mm/100mm

 

励磁电压

 

0~24Vdc/0~24V脉冲

 

主轴驱动

 

交流伺服

 

工件主轴转速

 

0~5000RPM

 

主轴数量

 

2轴/4轴

 

Z轴行程

 

200mm/300mm

 

Z轴驱动

 

交流伺服

 

对刀方式

 

压力式对刀/磁致伸缩对刀

 

磁流变液基材

 

水基或油基PH值=6~8

 

最大工件尺寸

 

150mm×150mm

 

最大去除率

 

0.2μm/min

 

最小表面粗糙度

 

Ra0.06~Ra0.08μm

 

工件装夹方式

 

夹具或真空

 

 

0769-81283575   0769-81283575   lhxluhaixin@163.com
地址:广东省东莞市塘厦镇环市东路49号601室
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